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開關(guān)電源中功率MOS管米勒效應(yīng)介紹

發(fā)布日期:2020-04-13 瀏覽:3524


開關(guān)電源中功率MOS管米勒效應(yīng)介紹

 

合芯半導(dǎo)體針對開關(guān)電源中MOS管在開關(guān)狀態(tài)下的米勒效應(yīng)做給簡要的介紹給大家,方便大家對MOS管(MOSFET)在開關(guān)電源中的選擇作幫助,同時(shí)能說明開關(guān)電源使用中功率器件MOS管(MOSFET)燒管的多數(shù)原因,客戶在使用過程和電路設(shè)計(jì)過程把握住MOS管的關(guān)鍵參數(shù)。

微信圖片_20200413110104.jpg 

MOSFET開關(guān)電源電路中的四個(gè)工作狀態(tài):開通過程(由截止到導(dǎo)通的過程)、導(dǎo)通狀態(tài)、關(guān)斷過程(由導(dǎo)通到截止的過程)、截止?fàn)顟B(tài)。

MOSFET主要損耗也主要在這幾個(gè)狀態(tài)過程,開關(guān)損耗(開通過程和關(guān)斷過程),導(dǎo)通損耗,截止損耗(漏電流引起的,這個(gè)可以忽略),還有雪崩能量損耗。一定要把這些損耗控制在mos承受范圍內(nèi),mos會正常工作不會有異常甚至燒管,超出這個(gè)范圍,容易發(fā)生損壞。在這幾個(gè)狀態(tài)中開關(guān)損耗往往大于導(dǎo)通狀態(tài)損耗(不同mos這個(gè)有差異。)

 

MOS損壞主要原因:

過流----------持續(xù)大電流或瞬間超大電流引起的結(jié)溫過高而燒毀;

過壓----------源漏過壓擊穿、源柵極過壓擊穿;

靜電----------靜電擊穿。CMOS電路都怕靜電;

 

MOS管簡要開關(guān)原理。MOS是電壓驅(qū)動型器件,只要柵源極間給一個(gè)適當(dāng)電壓大于Vth,源和漏間通路就形成。這個(gè)電流通路的電阻被mos導(dǎo)通內(nèi)阻,指我們常說的導(dǎo)通電阻Rds(on)。這個(gè)內(nèi)阻大小基本決定了mos芯片能承受的最大導(dǎo)通電流(和其它因素有關(guān),最重要的是熱阻)。內(nèi)阻越小MOS承受電流越大發(fā)熱小。

 

MOS使用問題遠(yuǎn)沒這么簡單,麻煩在它的柵源間,源漏間,柵漏間內(nèi)部有等效電容,這就要我們要關(guān)心MOSQgs, Qgd這兩個(gè)參數(shù)。使用過程中給柵電壓的過程同時(shí)柵源極電容充電的過程(電容電壓不能突變),所以MOS和漏間由截止到導(dǎo)通的開通過程受柵極電容的充電過程影響。

 

然而,MOS管中柵源極、柵漏極、源漏極三個(gè)等效電容是串并聯(lián)組合關(guān)系,它們相互影響,如果獨(dú)立的就很簡單了。其中一個(gè)關(guān)鍵電容就是柵漏間的電容Cgd,這個(gè)電容稱為米勒電容。這個(gè)電容是變化的,隨柵極和漏級間電壓變化。米勒電容阻礙柵極和源級電容充電,因?yàn)闁艠O給柵-源電容Cgs充電達(dá)到一個(gè)節(jié)點(diǎn)后,柵極的充電電流必須給米勒電容Cgd充電,這時(shí)柵極和源級間電壓不再升高,達(dá)到一個(gè)平臺,這個(gè)是米勒平臺(米勒平臺就是給Cgd充電的過程),米勒平臺帶來的影響就是米勒振蕩。(柵極先給Cgs充電,到達(dá)一定平臺后再給Cgd充電)這個(gè)時(shí)候源級和漏級間電壓迅速變化,內(nèi)部電容相應(yīng)速充放電,這些電流脈沖會導(dǎo)致MOS寄生電感產(chǎn)生感抗,這里面就有電容,電感,電阻組成震蕩電路(形成2個(gè)回路),并且電流脈沖越強(qiáng)頻率越高震蕩幅度越大,因此關(guān)鍵的問題是米勒平臺如何過渡。

 

柵源加電容或者減慢MOS管導(dǎo)通時(shí)間,有助于減小米勒振蕩防止mos不良。過快的充電會導(dǎo)致激烈的米勒震蕩,然而過慢的充電雖減小了震蕩,但會延長開關(guān)時(shí)間從而增加開關(guān)損耗。MOS開通過程源漏間等效電阻相當(dāng)于從無窮大電阻到阻值很小的導(dǎo)通內(nèi)阻的一個(gè)轉(zhuǎn)變過程,我們知道有的MOS管導(dǎo)通電阻小至幾毫歐,如此大的變化要MOS管安全穩(wěn)定工作我們在設(shè)計(jì)中要設(shè)計(jì)好參數(shù)。比如MOS最大電流100A,電池電壓48V,在開通過程中,有那么一瞬間(剛進(jìn)入米勒平臺時(shí))MOS發(fā)熱功率是P=V*I(此時(shí)電流已達(dá)最大,所有的功率都降落在MOS管上)P=48*100=4800w,這時(shí)它發(fā)熱功率最大,隨后發(fā)熱功率迅速降低直到完全導(dǎo)通時(shí)功率變成100*100*0.003=30w(假設(shè)這個(gè)MOS導(dǎo)通內(nèi)阻3毫歐)。可以看出MOS開關(guān)過程中發(fā)熱功率變化是驚人的。但是開通時(shí)間慢,意味著發(fā)熱從4800w30w過渡的慢,MOS管在這個(gè)過程中結(jié)溫會升高同樣發(fā)熱厲害。所以開關(guān)時(shí)間越慢,結(jié)溫越高,同樣容易燒MOS。為了降低MOS管不良,只能降低MOS管使用電流流或者降低電池電壓,比如電流降低到50A或電壓降低一半成24V,這樣開關(guān)發(fā)熱損耗也降低了一半。這也是高壓容易燒管子原因,高壓控制和低壓控制只有開關(guān)損耗不一樣(開關(guān)損耗和電池端電壓基本成正比,假設(shè)限流一樣),導(dǎo)通期間損耗完全受MOS管的內(nèi)阻決定,和電池電壓沒任何關(guān)系。

其實(shí)MOS管導(dǎo)通過程更加復(fù)雜,里面變量多。簡單言之就是開關(guān)慢不容易米勒震蕩,但開關(guān)損耗大,管子發(fā)熱大,開關(guān)速度快理論上開關(guān)損耗低(只要能有效抑制米勒震蕩),但是往往米勒震蕩很厲害(如果米勒震蕩很嚴(yán)重,可能在米勒平臺就燒管子了),反而開關(guān)損耗也大。設(shè)計(jì)師的驅(qū)動電路布線和主回路布線技能決定了MOS管的正常使用,目的就是找個(gè)平衡點(diǎn)(一般開通過程不超過1us)。開通損耗簡單,只和導(dǎo)通電阻成正比,想大電流低損耗找內(nèi)阻低的。

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下面對MOS挑選的重要參數(shù)簡要說明

合芯半導(dǎo)體封裝的75N80低壓MOS管的datasheet舉例說明。

柵極電荷Qgs, Qgd

Qgs:指的是柵極從0v充電到對應(yīng)電流米勒平臺時(shí)總充入電荷(實(shí)際電流不同,這個(gè)平臺高度不同,電流越大,平臺越高,這個(gè)值越大)。這個(gè)階段是給Cgs充電(也相當(dāng)于Ciss,輸入電容)。

Qgd:指的是整個(gè)米勒平臺的總充電電荷(在這稱為米勒電荷)。這個(gè)過程給CgdCrss,這個(gè)電容隨著柵漏極電壓不同迅速變化)充電。

合芯半導(dǎo)體的MOS75N80Qgs27ncQgd47nc。結(jié)合它的充電曲線。

進(jìn)入平臺前給Cgs充電,總電荷Qgs 20nc,平臺米勒電荷Qgd 30nc

開關(guān)電源中MOS管開關(guān)中,從Vgs開始超過閾值電壓VTH,到米勒平臺結(jié)束是主要發(fā)熱區(qū)間。其中米勒平臺結(jié)束后MOS基本完全打開這時(shí)損耗是基本導(dǎo)通損耗(MOS內(nèi)阻越低損耗越低)。閾值電壓前,MOS沒有打開,只有漏電流引起的一點(diǎn)損耗。Qgs充電將近結(jié)束,快到米勒平臺和剛進(jìn)入米勒平臺這個(gè)過程發(fā)熱功率最大。

所以一定充電電流下,總電荷小的管子會很快度過發(fā)熱區(qū),這樣發(fā)熱區(qū)間時(shí)間就短,總發(fā)熱量就低。所以理論上選擇QgsQgd小的mos管能快速度過開關(guān)區(qū)。

導(dǎo)通內(nèi)阻。Rdson)。這個(gè)耐壓一定情況下是越低越好。不過不同廠家標(biāo)的內(nèi)阻是有不同測試條件的。測試條件不同,內(nèi)阻測量值會不一樣。同一管子,溫度越高內(nèi)阻越大(這是硅半導(dǎo)體材料在mos制造工藝的特性,很難改善)。所以大電流測試內(nèi)阻會增大(大電流下結(jié)溫會顯著升高),小電流或脈沖電流測試,內(nèi)阻降低。

所以我們在參數(shù)選擇------------QgsQgd小的mos管,并同時(shí)符合低內(nèi)阻的mos管。

 

合芯半導(dǎo)體歡迎客戶來電來函咨詢洽談MOS管、三極管、可控硅、肖特基二極管等功率器件,期待與你的合作。

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